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刘铭准备彻底将光刻机研究到55nm,达到国内顶尖水准才会离开。
一直靠自己动手终究不是长久之计,最好的办法还是得到高端技术,直接培养一些可靠的科研人员,让他们学习,让他们做出突破。
当然,最重要的是,他目前也仅有55nm左右的理论知识,再精细下去,他只有一点点关羽28nm的猜想,想要研究出来,可就要耗费不少时间,缓慢积累。
刘铭自然是不可能在这里浪费太多的时间。
他最多写出一部分自己对于进一步28nm精度的设想方向,而后不再管理。
这一研究就是3天的时间,大炎电子科技的进度几乎是以肉眼可见的速度进步。
直接从65nm都搞不明白到如今刘铭新一步的修改计划,极有可能达到55nm的精度。
将东西写完,刘铭也懒得继续待在这里。
这里不能去大炎,也不能和父母待着,很�
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